Force microscopy imaging of photopatterned organosilane monolayers: application to probe alignment in AFM patterning following photolithography
作者: H. SugimuraN. Nakagiri
作者单位: 1Tsukuba Research Laboratory, Nikon Co., 5-9-1 Tokodai, Tsukuba 300-26, Japan
刊名: Applied Physics A Materials Science & Processing, 1998, Vol.66 (1), pp.S427-S430
来源数据库: Springer Journal
DOI: 10.1007/s003390051176
关键词: PACS: 82.65.-i82.80.-d68.60.-p
全文获取路径: Springer  (合作)
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影响因子:1.545 (2012)

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